07/09/2005

Chapitre V fabrication: l'OXIDE et le VERNIS


Chapitre V fabrication : l'OXYDE et le VERNIS
 

Avant d’appliquer le premier masque, on va chauffer l’épicouche du wafer pour obtenir une couche d’oxyde de silicium à la surface. Cette étape est indispensable car cette couche d’oxyde de silicium à pour mission de créer la base des transistors. Ensuite on va apposer une couche de vernis photosensible sur l’oxyde qui réagit à la lumière et qui va permettre d’appliquer le premier masque.

 

 

Comme celui-ci sera retranscrit sur la couche de vernis ? Tout simplement la ou le masque laisse passer la lumière, le vernis sera brûlé et il laissera son empreinte. Cette réaction fera l’objet du CHAPITRE VI et a pour nom la PHOTOLITHOGRAPHIE.

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